Moda

Diseñadora peruana presentará colección previo al New York Fashion Week

El talento peruano también brillará en una de las grandes capitales de la moda mundial

Editor: Redacción Multimedia

Fotografía: Difusión

Diseñadora peruana presentará colección previo al New York Fashion Week

FOTO: Difusión

La talentosa diseñadora peruana, Ana María Guiulfo representará a nuestro país en el evento internacional de moda Epson Digital Couture Project 2018 previo a la Semana de la Moda de Nueva York con la presentación de su nueva colección cápsula “Too Much Information” inspirada en la energía, movimiento y colores del folklor peruano para la temporada otoño-invierno 2018.

“Esta nueva colección se adapta a cualquier lugar del mundo y se combina con el estilo chic y versátil de los años setenta. Nos introduce a un mundo de color, diversión y sofisticación en el cual son reflejadas también las riquezas naturales y culturales del Perú”, explicó Ana María Guiulfo, diseñadora de modas.

Epson Digital Couture Project, exhibe las colecciones de 14 diseñadores de Latinoamérica y Norteamérica que combinan la tecnología y la moda a través de la técnica de sublimación que permite ilimitadas posibilidades de diseño con la avanzada tecnología de impresión digital. Para Guiulfo, este proceso es una solución de llevar el arte a la moda, y esto gracias a la tecnología de las impresoras SureColor Serie F de Epson.

Respecto a que mujeres va dirigido las prendas de la marca Ana G de Ana María Guiulfo, nos dice: “visto a las mujeres que deciden por sí mismas, aquellas que aman la libertad, que demuestran su amor al arte y la sofisticación. Yo hago el 50% y la que viste el otro 50%”. Cabe destacar que el día del evento será el martes 6 de febrero desde la ciudad de Nueva York en EE.UU. y que contará con la presencia de líderes de la industria de la moda y la tecnología así como de actores y personajes apasionados por este colorido y exigente mundo de la moda.

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